Dalam proses pembuatan papan litar bercetak, teknologi pendedahan adalah proses yang sangat teknikal dan kritikal yang secara langsung menentukan ketepatan dan kualiti corak litar papan litar, dengan itu mempengaruhi prestasi keseluruhan produk elektronik
1, Prinsip dan Asas Teknologi Pendedahan
Prinsip teras teknologi pendedahan adalah berdasarkan reaksi fotokimia. Photoresist filem kering yang digunakan oleh pengeluar papan litar bercetak (yang terdiri daripada filem poliester, lapisan photoresist, dan filem pelindung polietilena) menjalani tindak balas kimia dalam komponen fotosensitif lapisan photoresist di bawah radiasi ultraviolet tertentu, yang menyebabkan perubahan dalam solor. Pemaju untuk tidak larut (photoresist positif) atau sebaliknya (photoresist negatif). Dengan cara ini, dalam proses pembangunan berikutnya, corak litar yang direka boleh dipindahkan dengan tepat ke papan papan litar bercetak dengan membubarkan photoresist yang tidak terdedah atau terdedah.
2, persediaan berfungsi sebelum pendedahan
Pengeluaran filem
Pengilang papan litar bercetakPertama perlu menghasilkan filem ketepatan - yang tinggi mengikut dokumen reka bentuk papan litar. Corak litar pada filem itu adalah templat untuk proses pendedahan, dan ketepatan dan kualitinya secara langsung mempengaruhi ketepatan litar papan litar bercetak. Teknologi lukisan cahaya laser biasanya digunakan untuk menghasilkan filem, yang dapat mencapai resolusi dan ketepatan yang sangat tinggi, memastikan butiran litar yang jelas dan tepat.
Selepas pengeluaran selesai, pemeriksaan kualiti yang ketat dijalankan pada filem, termasuk memeriksa integriti litar, konsistensi lebar garis, dan kehadiran kecacatan atau kekurangan. Mana -mana isu kecil boleh diperbesarkan semasa proses pendedahan, yang mempengaruhi kualiti papan litar bercetak.
Ikatan filem kering
Bersih dan pra merawat permukaan papan litar bercetak untuk menghilangkan kekotoran seperti noda minyak dan oksida, memastikan lekatan yang baik dari filem kering. Kemudian, gunakan mesin melekat filem untuk sama rata memohon photoresist filem kering ke papan litar bercetak, dan mengawal parameter seperti suhu, tekanan, dan kelajuan filem yang melekat. Sebagai contoh, suhu biasanya antara 100-120 darjah C, tekanan adalah antara 3-5kg/cm ², dan kelajuan aplikasi filem bergantung kepada ciri-ciri filem kering dan saiz papan litar bercetak, biasanya sekitar 1-3m/min. Ini memastikan bahawa filem kering berpegang teguh, tanpa gelembung atau kedutan, memberikan asas yang baik untuk pendedahan.
3, Pautan Utama dan Kawalan Parameter Proses Pendedahan
Pemilihan dan penyahpepijatan peralatan pendedahan
Pengilang papan litar bercetak akan memilih peralatan pendedahan yang sesuai berdasarkan skala pengeluaran dan keperluan ketepatan, seperti mesin pendedahan lampu merkuri tradisional atau mesin pendedahan LED lanjutan. Mesin pendedahan LED mempunyai kelebihan penggunaan tenaga yang rendah, jangka hayat yang panjang, dan kesucian spektrum, secara beransur -ansur menjadi pilihan arus perdana dalam industri.
Sebelum pendedahan, perlu menyesuaikan peralatan dengan tepat untuk memastikan keseragaman intensiti ultraviolet, kestabilan panjang gelombang, dan ketepatan masa pendedahan. Dengan menggunakan peranti seperti meter tenaga ringan untuk mengukur dan menentukur tenaga di kawasan pendedahan, ia memastikan bahawa seluruh permukaan papan litar bercetak menerima tenaga pendedahan yang konsisten, mengelakkan penyimpangan ketepatan dalam corak litar yang disebabkan oleh tenaga yang tidak rata.
Pengoptimuman parameter pendedahan
Tenaga Pendedahan: Ini adalah salah satu parameter utama dalam proses pendedahan. Tenaga pendedahan yang berlebihan boleh menyebabkan pengawetan photoresist yang berlebihan, mengakibatkan penyempitan litar, tepi kasar, dan juga litar pintas; Sekiranya tenaga pendedahan terlalu rendah, tindak balas photoresist mungkin tidak mencukupi, dan kecacatan seperti garis kabur dan pemotongan mungkin berlaku selepas pembangunan. Pengilang akan menentukan julat tenaga pendedahan yang sesuai berdasarkan faktor-faktor seperti jenis dan ketebalan filem kering, serta ketumpatan litar papan litar bercetak, melalui pelbagai eksperimen dan pengoptimuman, umumnya antara 80-150mj/cm ².
Waktu Pendedahan: Masa pendedahan berkait rapat dengan tenaga pendedahan. Biasanya, selepas menentukan tenaga pendedahan yang sesuai, masa pendedahan diselaraskan untuk memastikan bahawa photoresist dapat bertindak balas sepenuhnya. Masa pendedahan terlalu pendek, dan photoresist tidak menerima tenaga yang cukup untuk menyembuhkan sepenuhnya; Masa pendedahan yang berlebihan dapat meningkatkan kos pengeluaran dan mengurangkan kecekapan pengeluaran, sementara juga berpotensi mempengaruhi prestasi photoresist. Masa pendedahan umum adalah antara 10-30 saat, dan nilai tertentu akan diselaraskan mengikut keadaan sebenar.
Ijazah vakum: Semasa proses pendedahan, untuk memastikan kesesuaian antara filem dan filem kering di papan litar bercetak, mengurangkan penyebaran dan pembiasan cahaya, dan meningkatkan ketepatan pendedahan, platform pendedahan perlu dipindahkan ke ijazah vakum tertentu. Ijazah vakum biasanya diperlukan di antara -0.08MPa dan -0.1mpa, memastikan tidak ada jurang udara antara filem dan filem kering, sehingga cahaya ultraviolet dapat melewati corak litar pada filem dan menyinari filem kering, dengan itu mencapai pemindahan corak yang tepat.